链式碱抛系统

链式碱抛系统，作为SCHMID集团的一个重要研发成果，通过利用碱溶液（KOH）替代较难处理的硝酸（HNO3）来进行刻蚀，获得优异的边缘隔离和抛光效果，是目前市场上唯一无需使用硝酸的链式刻蚀设备。

目前行业常用酸刻蚀工艺对硅片进行边缘隔离和抛光，根据不同工艺要求，利用氢氟酸和硝酸（HF/HNO3）混合药液对硅片进行腐蚀，腐蚀深度为2-7µm。在整个工艺过程中，硝酸将硅氧化成二氧化硅（SiO2），同时产生大量的氮氧化物气体（NOx）。根据相关的环境法规，这些废气必须经过净化处理。HF/HNO3酸刻蚀工艺不仅化学品成本更高，而且废液、废气处理成本也很大。因此，SCHMID研发并采用KOH溶液来进行刻蚀，大大降低了化学品耗量和成本以及相应的处理成本。同时，这也更加满足日益严格的环境要求。

基于40多年丰富的湿法工艺经验，链式碱抛系统结合了SCHMID量产多年的链式碱单晶制绒机台和其他久经验证的湿法设备的优点，将多个工艺步骤集成到一个模块化的设备中。一方面将扩散工序生成的背面发射极与前表面发射极隔离；另一方面去除硅片表面的磷硅玻璃（PSG)。