采用先进的湿法工艺结合常压化学气相沉积激光掺杂的低成本IBC电池的制造

多年以来，采用SCHMID常压化学气相沉积设备（APCVD）生产的掺杂玻璃在高效太阳电池制造中表现出了优异的性能。最新结果表明，采用该设备沉积的掺硼玻璃作为激光诱导掺杂的局部掺杂源，让IBC电池工艺流程更加高效，潜在效率接近24%。

随着PERC电池效率接近工业制造太阳电池的效率极限，基于n型的电池结构已表现出迅猛的发展势头，首批采用高效工艺的IBC电池生产线已建成投产。

SCHMID与斯图加特大学的光电技术研究所和康斯坦茨国际太阳能研究中心进行合作，采用常压化学气相沉积设备和湿法工艺技术用于生产完整的IBC电池，如下所示[1]：采用一种商业级基体材料直拉（Cz）生长的n型硅片，其电阻率为1.5Ω·cm，具有各向异性表面（100）。硅片正面在SCHMID水平链式制绒系统中使用氢氧化钾和Alkatex溶液进行化学制绒，以获得均匀的金字塔结构。然后在SCHMID水平链式碱抛系统中使用温度超过80℃的氢氧化钾溶液对硅片背面进行抛光。